3d-ic 文章 最新資訊
提高效率:IC推動AI發(fā)展,AI改變了IC制造
- 推動當今價值超過 5000 億美元的半導體行業(yè)將年收入增長到 1 萬億美元,這正在挑戰(zhàn)更廣泛供應鏈的各個方面擁抱人工智能。人工智能正在改變晶圓廠的架構(gòu)和運行方式、設(shè)備的制造方式以及服務器群的構(gòu)建方式。與此同時,所有這一切都得益于人工智能芯片和算法的進步,這是一種更智能技術(shù)的良性循環(huán),使其他技術(shù)能夠提高兩者的能力。這是今年在鳳凰城舉行的 SEMICON West 會議上討論的主要話題,推動了近年來缺乏的熱議。從大局來看,人工智能正在各地創(chuàng)造巨大的機會?!皵[在我們面前有 2 萬億美元的機會,一個是 AI 工廠
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IC China 2025攜手全產(chǎn)業(yè)鏈領(lǐng)軍企業(yè)邀您相約北京
- 2025年11月23日—25日,第二十二屆中國國際半導體博覽會(IC China 2025)將在中國?北京國家會議中心舉辦。此次博覽會以“凝芯聚力·鏈動未來”為主題,圍繞高峰論壇、展覽展示、產(chǎn)業(yè)對接、專場活動四大核心板塊,為全球半導體行業(yè)搭建專業(yè)交流合作平臺,助力半導體產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展。高峰論壇:聚焦產(chǎn)業(yè)前沿,匯聚全球智慧共話發(fā)展在高峰論壇板塊,多場高規(guī)格論壇已確認舉辦,覆蓋半導體產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵領(lǐng)域與前沿方向。1開幕式暨第七屆全球IC企業(yè)家大會將作為展會開篇重頭戲,匯聚全球行業(yè)領(lǐng)軍人物,共話半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢與全
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3D-IC將如何改變芯片設(shè)計
- 專家在座:半導體工程與西門子 EDA 產(chǎn)品管理高級總監(jiān) John Ferguson 坐下來討論 3D-IC 設(shè)計挑戰(zhàn)以及堆疊芯片對 EDA 工具和方法的影響;Mick Posner,Cadence 計算解決方案事業(yè)部 IP 解決方案小芯片高級產(chǎn)品組總監(jiān);莫維盧斯的莫·費薩爾;是德科技新機會業(yè)務經(jīng)理 Chris Mueth 和新思科技 3D-IC 編譯器平臺產(chǎn)品管理高級總監(jiān) Amlendu Shekhar Choubey。本討論的第 1 部分在這里,第 2&
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長江存儲全面完成股改,估值已超1600億元
- 總部位于武漢的長江存儲科技控股有限責任公司(長存集團)召開股份公司成立大會并選舉首屆董事會,此舉或意味著其股份制改革已全面完成。在胡潤研究院最新發(fā)布的《2025全球獨角獸榜》中,長江存儲以1600億元估值首次入圍,位列中國十大獨角獸第9、全球第21,成為半導體行業(yè)估值最高的新晉獨角獸。根據(jù)公開信息,2025年4月,養(yǎng)元飲品子公司泉泓、農(nóng)銀投資、建信投資、交銀投資、中銀資產(chǎn)、工融金投等15家機構(gòu)同步參與;7月,長存集團新增股東員工持股平臺 —— 武漢市智芯計劃一號至六號企業(yè)管理合伙企業(yè)(有限合伙),上述兩筆
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第一次深入真正的3D-IC設(shè)計
- 專家在座:半導體工程坐下來討論了對 3D-IC 的初步嘗試以及早期采用者將遇到的問題,西門子 EDA 產(chǎn)品管理高級總監(jiān) John Ferguson;Mick Posner,Cadence 計算解決方案事業(yè)部 IP 解決方案小芯片高級產(chǎn)品組總監(jiān);莫維盧斯的莫·費薩爾;是德科技新機會業(yè)務經(jīng)理 Chris Mueth 和新思科技 3D-IC 編譯器平臺產(chǎn)品管理高級總監(jiān) Amlendu Shekhar Choubey。從左到右:是德科技的 Mueth;Synopsys 的
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“RISC-V商用落地加速營伙伴計劃”在北京亦莊發(fā)布 聚力推動RISC-V產(chǎn)品方案從原型走向商用落地
- 9月25日,作為2025北京微電子國際研討會暨IC WORLD大會的重要專題論壇,RDI生態(tài)·北京創(chuàng)新論壇·2025在北京亦莊舉行。本次論壇以“挑戰(zhàn)·對策·破局·加速”為主題,匯聚產(chǎn)業(yè)鏈上下游代表,圍繞RISC-V在垂直場景下的商業(yè)化路徑及策略展開深度研討,共同推動RISC-V從原型產(chǎn)品向規(guī)模商用落地邁進。論壇現(xiàn)場會上,工業(yè)和信息化部電子信息司二級巡視員周海燕,北京市經(jīng)濟和信息化局總工程師李輝,北京經(jīng)開區(qū)管委會副主任、北京市集成電路重大項目辦公室主任歷彥濤,RISC-V工委會戰(zhàn)略指導委員會主任倪光南,RI
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國產(chǎn)廠商切入下一代存儲技術(shù):3D DRAM
- 隨著 ChatGPT 等人工智能應用的爆發(fā)式增長,全球?qū)λ懔Φ男枨笳灾笖?shù)級態(tài)勢攀升。然而,人工智能的發(fā)展不僅依賴于性能強勁的計算芯片,更離不開高性能內(nèi)存的協(xié)同配合。傳統(tǒng)內(nèi)存已難以滿足 AI 芯片對數(shù)據(jù)傳輸速度的要求,而高帶寬內(nèi)存(HBM)憑借創(chuàng)新的堆疊設(shè)計,成功攻克了帶寬瓶頸、功耗過高以及容量限制這三大關(guān)鍵難題,為 AI 應用的高效運行提供了重要支撐。但如今,傳統(tǒng) HBM 已經(jīng)受限,3D DRAM 能夠提供更高帶寬。同時還能進一步優(yōu)化功耗表現(xiàn),全球的存儲廠商也普遍將 3D
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汽車應用3D-IC:利用人工智能驅(qū)動的EDA工具打破障礙
- 汽車行業(yè)正在經(jīng)歷重大變革,因為它采用自動駕駛技術(shù)和超互聯(lián)生態(tài)系統(tǒng)等創(chuàng)新。這一變化的核心是對緊湊型、高性能半導體解決方案的需求不斷增長,這些解決方案能夠應對日益復雜的現(xiàn)代汽車架構(gòu)。一項有前途的發(fā)展是三維集成電路 (3D-IC),這是一種創(chuàng)新的半導體設(shè)計方法,有可能重塑汽車市場。通過垂直堆疊多個芯片,3D-IC 提供卓越的性能、帶寬和能源效率,同時克服車輛系統(tǒng)的關(guān)鍵空間和熱限制。然而,盡管 3D-IC 具有潛力,但其設(shè)計和實施仍面臨重大挑戰(zhàn)。這就是人工智能驅(qū)動的電子設(shè)計自動化 (EDA) 工具發(fā)揮至關(guān)重要作用
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實現(xiàn)120層堆疊,下一代3D DRAM將問世
- 高密度 3D DRAM 可能即將到來。
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在EDA禁令的33天里,四大EDA巨頭更關(guān)注3D IC和數(shù)字孿生
- 從5月29日美國政府頒布對華EDA禁令到7月2日宣布解除,33天時間里中美之間的博弈從未停止,但對于EDA公司來說,左右不了的是政治禁令,真正贏得客戶的還是要靠自身產(chǎn)品的實力。作為芯片設(shè)計最前沿的工具,EDA廠商需要深刻理解并精準把握未來芯片設(shè)計的關(guān)鍵。?人工智能正在滲透到整個半導體生態(tài)系統(tǒng)中,迫使 AI 芯片、用于創(chuàng)建它們的設(shè)計工具以及用于確保它們可靠工作的方法發(fā)生根本性的變化。這是一場全球性的競賽,將在未來十年內(nèi)重新定義幾乎每個領(lǐng)域。在過去幾個月美國四家EDA公司的高管聚焦了三大趨勢,這些趨
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2.5D/3D 芯片技術(shù)推動半導體封裝發(fā)展
- 來自日本東京科學研究所 (Science Tokyo) 的一組研究人員構(gòu)思了一種名為 BBCube 的創(chuàng)新 2.5D/3D 芯片集成方法。傳統(tǒng)的系統(tǒng)級封裝 (SiP) 方法,即使用焊料凸塊將半導體芯片排列在二維平面 (2D) 中,具有與尺寸相關(guān)的限制,因此需要開發(fā)新型芯片集成技術(shù)。對于高性能計算,研究人員通過采用 3D 堆棧計算架構(gòu)開發(fā)了一種新穎的電源技術(shù),該架構(gòu)由直接放置在動態(tài)隨機存取存儲器堆棧上方的處理單元組成,標志著 3D 芯片封裝的重大進步。為了實現(xiàn) BBCube,研究人員開發(fā)了涉及精確和高速粘合
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Neo Semiconductor將IGZO添加到3D DRAM設(shè)計中
- 存儲設(shè)備研發(fā)公司Neo Semiconductor Inc.(加利福尼亞州圣何塞)推出了其3D-X-DRAM技術(shù)的銦-鎵-鋅-氧化物(IGZO)變體。3D-X-DRAM 于 2023 年首次發(fā)布。Neo 表示,它已經(jīng)開發(fā)了一個晶體管、一個電容器 (1T1C) 和三個晶體管、零電容器 (3T0C) X-DRAM 單元,這些單元是可堆疊的。該公司表示,TCAD 仿真預測該技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn) 10ns 的讀/寫速度和超過 450 秒的保持時間,芯片容量高達 512Gbit。這些設(shè)計的測試芯片預計將于 2026 年推出
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3D打印高性能射頻傳感器
- 中國的研究人員開發(fā)了一種開創(chuàng)性的方法,可以為射頻傳感器構(gòu)建分辨率低于 10 微米的高縱橫比 3D 微結(jié)構(gòu)。該技術(shù)以 1:4 的寬高比實現(xiàn)了深溝槽,同時還實現(xiàn)了對共振特性的精確控制并顯著提高了性能。這種混合技術(shù)不僅提高了 RF 超結(jié)構(gòu)的品質(zhì)因數(shù) (Q 因子) 和頻率可調(diào)性,而且還將器件占用空間減少了多達 45%。這為傳感、MEMS 和 RF 超材料領(lǐng)域的下一代應用鋪平了道路。電子束光刻和納米壓印等傳統(tǒng)光刻技術(shù)難以滿足對超精細、高縱橫比結(jié)構(gòu)的需求。厚度控制不佳、側(cè)壁不均勻和材料限制限制了性能和可擴展性。該技術(shù)
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3d-ic介紹
3D IC產(chǎn)業(yè)鏈依制程可概略區(qū)分成3大技術(shù)主軸,分別是前段(Front-end)、中段(Middle-end)及后段(Backend)。前段制程涵蓋芯片前段CMOS制程、晶圓穿孔、絕緣層(Isolation)、銅或鎢電鍍(Plating),由晶圓廠負責。為了日后芯片堆疊需求,TSV芯片必須經(jīng)過晶圓研磨薄化(Wafer Thinning)、布線(RDL)、晶圓凸塊等制程,稱之為中段,可由晶圓廠或封測 [ 查看詳細 ]
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