光刻機 文章 最新資訊
EUV光刻機將成為算力擴張的下一個瓶頸
- 隨著AI投資狂潮席卷科技行業(yè)，真正限制算力擴張的環(huán)節(jié)在哪里？半導體研究機構SemiAnalysis創(chuàng)始人給出的答案是：瓶頸一直在變。SemiAnalysis是一家近年來在科技和投資圈迅速走紅的半導體研究機構，其研究廣泛被AI公司、云計算廠商以及對沖基金使用。近日，在一次播客訪談中，SemiAnalysis創(chuàng)始人Dylan Patel系統(tǒng)解釋了AI算力擴張背后的供應鏈邏輯。他指出，過去幾年AI算力的限制因素不斷變化，就像打地鼠一樣，一個瓶頸被解決，新的瓶頸就會出現(xiàn)。算力擴張的瓶頸不斷變化Dylan Pate
- 關鍵字： EUV 光刻機 算力 ASML
三星據(jù)報道首次外包光掩模，著眼于新的 EUV 光掩模技術
- 根據(jù) The Elec 報道，援引行業(yè)消息人士稱，三星首次外包光掩?！酒圃熘兄陵P重要的組件。報道稱，三星據(jù)說正在外包低端光掩模用于內(nèi)存芯片，這表明其策略是將資源轉(zhuǎn)向 ArF 和 EUV 掩模生產(chǎn)。本月早些時候，三星據(jù)報道向美國光掩模制造商 Photronics 的子公司 PKL 訂購了用于內(nèi)存生產(chǎn)的 i-line 和 KrF 光掩模。報道補充說，日本的 Tekscend Photomask 也在評估中，預計很快將收到訂單。報道指出，由于這些是低端芯片的掩模，三星認為它們泄露技術的
- 關鍵字： EUV 光刻機 掩膜 三星
中芯國際據(jù)報測試國產(chǎn)深紫外（DUV）光刻設備，來自 SiCarrier 子公司， amid AI 芯片推動
- 隨著中國通過增加國內(nèi) AI 芯片來對抗 NVIDIA 推動半導體獨立，據(jù)報道，中國正朝著自力更生邁出另一大步，因為 SMIC 據(jù)報正在測試由本地初創(chuàng)公司 Yuliangsheng 開發(fā)的深紫外（DUV）光刻機。SiCarrier 通常以中國標志性的山命名其設備，包括用于蝕刻機的武夷和用于外延產(chǎn)品的峨眉，TechPowerUp 報道。有趣的是，金融時報披露，這次最新的 EUV 計劃，據(jù)熟悉情況的人士稱，擁有雄心勃勃的內(nèi)部代號“珠穆朗瑪峰”。消息人士稱，SMIC 正在測試的機器使用與 ASML 系統(tǒng)類似的全浸
- 關鍵字： 中芯國際 EDA DUV 光刻機
尼康宣布關閉橫濱工廠，精密設備業(yè)務疲軟
- 8 月 21 日， 尼康宣布計劃于 9 月 30 日關閉其橫濱工廠。據(jù)日經(jīng)報道，截至 7 月底，該設施雇傭了約 350 人。這些員工將留在公司，隨著工廠的運營轉(zhuǎn)移到東京品川的尼康總部以及神奈川縣的其他地點，他們將搬遷到接收站點。據(jù)日經(jīng)新聞補充，橫濱工廠一直從事生物顯微鏡、工業(yè)設備和平板顯示器（FPD）光刻設備的開發(fā)與制造。公司表示，該工廠的關閉已經(jīng)計入其截至2026年3財年的合并業(yè)績預測中，并指出總體影響將有限。據(jù)報告稱，尼康公司旨在通過整合設施來削減成本。尼康光刻業(yè)務：歷史作用與當前衰退該工廠
- 關鍵字： 尼康 光刻機 晶圓代工
中國首臺商用電子束光刻機揭幕
- 8月13日，我國首臺自主研發(fā)的商用電子束光刻機“羲之”在浙江余杭正式揭幕。根據(jù)杭州政府網(wǎng)站的報道，這臺機器是浙江大學技術轉(zhuǎn)化基地簽署的第一個項目之一。它已經(jīng)在客戶現(xiàn)場進行了測試，精度與主流國際設備相當。這一里程碑標志著量子芯片研發(fā)現(xiàn)在有了自己的“中國刻刀?！毖邪l(fā)團隊的一名成員解釋說，西馳專注于量子芯片和下一代半導體研究的核心階段。它使用高能電子束在硅基板上“手繪”電路，實現(xiàn)0.6納米的精度和8納米的線寬。其設計可以靈活修改，無需掩模，就像用納米級的畫筆直接在芯片上繪畫一樣——特別適合芯片開發(fā)早期階段所需的
- 關鍵字： 光刻機 工藝制程 電子束光刻機
歐盟晶圓廠設備制造商在歐盟-美國關稅協(xié)議中獲得暫緩——阿斯麥等公司將被免征15%關稅
- （圖片來源：ASML）美國總統(tǒng)和歐洲委員會主席本周早些時候簽署的貿(mào)易協(xié)議對幾乎所有在歐洲制造并運往美國的商品征收 15%的關稅，但有幾類產(chǎn)品將免稅，包括半導體生產(chǎn)設備，這些設備將享受零關稅。因此，像 ASML 這樣的公司生產(chǎn)的工具在美國不會變得更貴。歐洲委員會的一份聲明稱：“我們還就一些戰(zhàn)略產(chǎn)品達成了零關稅的協(xié)議。” 聲明中寫道?！斑@包括所有飛機及其零部件、某些化學品、某些通用藥品、半導體設備、某些農(nóng)產(chǎn)品、自然資源和關鍵原材料。我們將繼續(xù)努力將更多產(chǎn)品添加到這個清單中?！比绻绹鴮?ASML 生
- 關鍵字： ASML 光刻機 關稅
ASML研發(fā)5納米分辨率Hyper NA光刻機
- 據(jù)外媒報道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動研發(fā)分辨率可達5納米的Hyper NA光刻機設備。ASML技術執(zhí)行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進的光刻機，其單次曝光分辨率可達8納米，相比舊款設備需要多次曝光才能實現(xiàn)類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進行設計研究，目標是開發(fā)數(shù)值孔徑（NA）達到0.7或更高的系統(tǒng)。數(shù)值孔徑是衡量光學系統(tǒng)聚焦能力的重要指標，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長
- 關鍵字： ASML 5納米 Hyper NA 光刻機
ASML計劃在荷蘭大規(guī)模擴張，助力EUV設備交付
- 據(jù)荷蘭媒體報道，ASML計劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發(fā)展計劃初步草案時透露的。這一擴張計劃引發(fā)了全球晶圓制造行業(yè)的廣泛關注。據(jù)Tom's Hardware報道，臺積電、英特爾和三星電子等半導體巨頭或?qū)闹惺芤?。ASML的擴張如果能按計劃推進，將有助于滿足全球?qū)O紫外光（EUV）光刻設備的迫切需求，從而加速先進制程的開發(fā)與應用。Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)的擴張計劃大約在一年前首次公開。據(jù)荷蘭消
- 關鍵字： EUV 光刻機 ASML
俄羅斯被指竊取ASML、臺積電機密！才有了自己的28nm工藝
- 快科技4月3日消息，據(jù)NRC報道，一名43歲的俄羅斯工程師German A.，被指控從ASML阿斯麥、GlobalFoundries格芯、NXP恩智浦、TSMC臺積電竊取機密技術信息，從而幫助俄羅斯建立了自己的28nm晶圓廠。根據(jù)指控，他偷竊了ASML 105份內(nèi)部文件、臺積電88份內(nèi)部文件，涉及半導體生產(chǎn)、各種芯片制造設備的信息。文件中并沒有設計和建造晶圓廠的完整藍圖，后者更高級的技術，但仍被視為機密，足以支撐建立完整的28nm級工藝生產(chǎn)線，軍用等領域足夠了。調(diào)查稱，German A.通過網(wǎng)盤、社交應用
- 關鍵字： 俄羅斯 ASML 光刻機
俄羅斯首臺350nm光刻機將在莫斯科生產(chǎn)
- 3月25日消息，據(jù)俄羅斯衛(wèi)星通訊社報道，莫斯科市長謝爾蓋·索比亞寧近日在其 “電報” 頻道的賬號上發(fā)文稱，莫斯科“澤列諾格勒納米技術中心”公司已完成了俄羅斯首臺350nm光刻機的研發(fā)工作，這是生產(chǎn)微芯片的關鍵設備。在俄烏沖突爆發(fā)后，美西方對俄羅斯實施了更為嚴厲的出口管制措施，其中半導體芯片及光刻機等半導體設備成為了限制的重點，這也迫使俄羅斯開始研發(fā)自主設計的國產(chǎn)光刻機。2023年，俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）在接受媒體采訪時就曾表示，2024年俄羅斯將開始生產(chǎn)35
- 關鍵字： 俄羅斯 光刻機
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