"); //-->

9 月 11 日消息,據(jù)國家電力投資集團(tuán)有限公司(以下簡稱“國家電投”)9 月 10 日消息,近日,國家電投所屬國電投核力創(chuàng)芯(無錫)科技有限公司(以下簡稱“核力創(chuàng)芯”)暨國家原子能機(jī)構(gòu)核技術(shù)(功率芯片質(zhì)子輻照)研發(fā)中心,完成首批氫離子注入性能優(yōu)化芯片產(chǎn)品客戶交付。
國家電投表示,這標(biāo)志著我國已全面掌握功率半導(dǎo)體高能氫離子注入核心技術(shù)和工藝,補(bǔ)全了我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中缺失的重要一環(huán),為半導(dǎo)體離子注入設(shè)備和工藝的全面國產(chǎn)替代奠定了基礎(chǔ)。
據(jù)國家電投介紹,氫離子注入是半導(dǎo)體晶圓制造中僅次于光刻的重要環(huán)節(jié),在集成電路、功率半導(dǎo)體、第三代半導(dǎo)體等多種類型半導(dǎo)體產(chǎn)品制造過程中起著關(guān)鍵作用,該領(lǐng)域核心技術(shù)及裝備工藝的缺失嚴(yán)重制約了我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的高端化發(fā)展,特別是 600V 以上高壓功率芯片長期依賴進(jìn)口。核力創(chuàng)芯的技術(shù)突破,打破了國外壟斷。
核力創(chuàng)芯在不到三年的時(shí)間里,突破多項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)壁壘,實(shí)現(xiàn)了 100% 自主技術(shù)和 100% 裝備國產(chǎn)化,建成了我國首個(gè)核技術(shù)應(yīng)用和半導(dǎo)體領(lǐng)域交叉學(xué)科研發(fā)平臺。首批交付的芯片產(chǎn)品經(jīng)歷了累計(jì)近萬小時(shí)的工藝及可靠性測試驗(yàn)證,主要技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國際先進(jìn)水平,獲得用戶高度評價(jià)。
查詢獲悉,國電投核力創(chuàng)芯(無錫)科技有限公司成立于 2021 年 03 月 09 日,注冊地位于江蘇省無錫市,注冊資本 7022.63 萬元。
來源:集微網(wǎng)
--End--
*博客內(nèi)容為網(wǎng)友個(gè)人發(fā)布,僅代表博主個(gè)人觀點(diǎn),如有侵權(quán)請聯(lián)系工作人員刪除。
相關(guān)推薦
美國為其限制向中國出口光刻設(shè)備的政策辯護(hù)
據(jù)報(bào)道,中國利用較舊的ASML組件制造EUV原型機(jī),Eyes 2028芯片制造
EUV光刻技術(shù),想了解的可以下載看看
中國研究團(tuán)隊(duì)首度揭秘光刻膠在顯影液中的微觀行為,為提升光刻精度與良率開辟新路徑
ASML亮相第八屆進(jìn)博會,展示其全球AI洞察與面向主流芯片市場的全景光刻解決方案
中國陜西8英寸硅光子學(xué)平臺正式上線
美國智庫指出DUVi存在漏洞,中國正推動(dòng)利用多模式技術(shù)開發(fā)先進(jìn)芯片
日本開發(fā)10納米印記技術(shù),有望解決極紫外(EUV)瓶頸問題
ASML的魔力揭秘:其EUV優(yōu)勢背后的技術(shù)和合作伙伴中國無法復(fù)制
俄羅斯押注130納米芯片:本土光刻技術(shù)能否彌補(bǔ)技術(shù)鴻溝?
成品率驅(qū)動(dòng)的光刻校正技術(shù)
IC工藝原理
光刻工藝流程
據(jù)中國中小企業(yè)在國內(nèi)推動(dòng)下贏得1.1億元人民幣光刻工具合同
ASML報(bào)告2025年銷售額為327億歐元
集成電路的制造